台湾・高等検察署知的財産検察分署は2025年8月27日、TSMC(台積電)の2nm製造プロセスに関する機密を不正取得・域外使用しようとしたとして、元社員の陳力銘氏と在職エンジニア吳秉駿氏、戈一平氏を起訴しました。検察は国家安全法（国家核心関鍵技術）および営業秘密法違反を適用し、最長14年の実刑を求刑しています。TSMCは7月8日に不審を検知し告訴、7月末に当局が拘提・収押、8月27日に偵査終結・起訴に至った流れです。
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事件の概要
2025年8月27日、台湾の検察当局はTSMCの2nm製造プロセスに関する機密資料が不正に取得・持ち出されたとして、元社員の陳力銘氏と在職エンジニアの吳秉駿氏、戈一平氏の3名を起訴しました。捜査によれば、陳氏は退職後に装置サプライヤーの東京エレクトロン（東京威力科創）に転じ、旧知の在職者らに働きかけて技術資料を撮影・複製させ、エッチング装置の性能改善やTSMCの2nm量産ライン採用を狙ったとされています。
TSMCは7月8日に社内監視で異常を検知して告訴し、当局は7月25～28日にかけて捜索と拘提を実施、今回の起訴に至りました。検察は国家安全法（国家核心関鍵技術の域外使用）および営業秘密法違反を適用し、陳氏に最長14年、吳氏に9年、戈氏に7年の実刑を求刑しています。東京威力科創は当該社員を解雇し、当局に協力していると報じられています
現地報道では、東京エレクトロンとTSMCが9月に協議する可能性も報道されています。
起訴内容と求刑の内訳
陳力銘氏：国家安全法（域外使用）ほかで計14年求刑。
吳秉駿氏：同9年求刑。
戈一平氏：同7年求刑。
なぜ2nmは重要なのか
2nmは資本・人材・装置の総力戦で、わずかな条件・レシピ情報でも歩留まり向上や開発短縮に寄与し得ます。
先端ノードは分業・モジュール化が進むため単一断片で完全再現は困難とされますが、良率調整のパラメータや工程統合の“勘所”は競争力に直結します。よって、漏えいの実効性評価と対外説明は投資家・顧客・規制当局の三正面で重要です。
サプライチェーンとガバナンス：装置ベンダ側の要諦
今回のケースは、装置ベンダに転籍した個人と現職側の“横断的結託”が疑われる点が特徴です。装置ベンダには以下の対応が求められます。
機密区分の整合：ファウンドリ提供情報とベンダ自社情報の分類・隔離（閲覧権限と二要素の紐付けを個人単位に）。
移籍者のクーリング：機微領域（プロセス統合、レシピ最適化）は一定期間の業務制限と監査ログ強化を雇用契約に明記。
持出し経路の遮断：社内/顧客先での撮影・画面転送・個人クラウドを技術・物理の二重で抑止。
共同開発PJの監査：誰が・いつ・どの図面/写真にアクセスしたかを追える不可改ざんログを共同管理。
一部参照
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投稿者：三村
セキュリティ対策Labのダークウェブの調査から執筆まで対応しています。
セキュリティ製品を販売する上場企業でSOC(セキュリティオペレーションセンター)や脆弱性の営業8年、その後一念発起しシステムエンジニアに転職。MDMや人事系のSaaS開発を行う。